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《光学成像效果绘制》依据作者在光学成像效果绘制领域多年的研究成果凝练而成，系统地介绍了光学成像效果绘制的理论基础、发展脉络以及关键技术方法。《光学成像效果绘制》共9章，第1章绪论阐述了国内外光学成像效果绘制的研究进展；第2～4章介绍了基于几何光学的成像效果自适应绘制方法；第5～6章介绍了基于波动光学的成像效果绘制方法；

本书利用经典和量子方法，结合对称原理，给出了与分子散射偏振光问题相关的各种光学活性及有关现象的理论推导。不仅介绍了与电子跃迁相关的、常见的紫外可见区域光学活性和圆二色性的内容，还介绍了与振动跃迁相关的红外及拉曼探测技术相关的光学活性新课题。通过讨论光学活性和手性在从基本粒子的物性到病毒的结构等方面的应用，指出相关课题在

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