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半导体制造过程的批间控制和性能监控 读者对象:半导体工业的从业人员,高等院校自动化、控制相关专业的教师和学生
本书基于当前半导体行业制造过程中存在的问题,介绍了多种改进的批间控制和过程监控算法及其性能。第1章为半导体制造过程概述,包括国内外研究现状和发展趋势。第2、3章介绍批间控制、控制性能和制造过程监控。第4~7章讨论机台干扰、故障、度量时延对系统性能的影响,提出多种批间控制衍生算法,包括双产品制程的EWMA批间控制算法、变折扣因子EWMA批间控制算法、偏移补偿批间控制算法、基于T-S模糊模型的批间控制算法。第8~11章介绍半导体制造过程的性能和过程监控方法,包括:设计模型评价指标进行建模质量评估;提出基于时间序列模型的批间控制系统过程监控方法,进一步提出二维动态批次过程的建模和稳定性评价指标;提出基于数据的故障预测方法。
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