半导体工艺原理

定　　价：198 元

• 作者：悟弥今编著
• 出版时间：2025/3/1
• ISBN：9787122472366
• 出 版 社：化学工业出版社

• 中图法分类：TN305 
• 页码：387页
• 版次：1
• 开本：24cm

内容简介

。本册为《半导体工艺原理》，主要内容包括：锗和硅的化学制备与提纯、半导体材料的生长、硅片加工、氧化工艺、薄膜沉积工艺、外延工艺、光刻工艺概述、光刻设备、光刻材料、刻蚀工艺、掺杂工艺等。